二手 ULVAC EBX-2000C #9260363 待售

ULVAC EBX-2000C是為薄膜沈積技術設計的濺射設備.它利用電磁波（EM）加速技術，使離子源更高效、更快，而無需加壓環境或其他電源。該系統由目標組件、源室、真空室、濺射槍和可選輔助室組成。目標組件允許在一個框架內保持多個目標,每個目標都有不同的材料,從而可以快速輕松地切換材料以進行濺射。源室是離子源所在的位置，通過流體管與濺射槍相連。真空室用於創建濺射所需的真空環境，並可進行調節，為不同的沈積過程提供不同的真空水平。濺射槍是將要沈積的材料送入單元的地方，也是EM加速技術發揮作用的地方。最後，輔助室是一個單獨的腔室，可用於額外的濺射沈積過程。為了確保從ULVAC EBX 2000C中獲得良好的薄膜沈積，保持適當的真空讀數、濺射壓力、功率水平和基板溫度非常重要。機器的適當維護對於確保沈積過程的質量也很重要。這包括定期清潔源腔和濺射槍，以及檢查電氣連接。該工具還帶有一個控制器，可用於編程和監控資產操作，以及數據記錄和報告功能，以跟蹤沈積時間。總體而言，EBX 2000 C是一種可靠高效的濺射模型，具有多種目標配置，可用於薄膜沈積。它提供了廣泛的操作參數，使工藝符合所需的薄膜輪廓，並在適當維護時提供可靠和可重復的沈積工藝。