二手 ULVAC EI-5 #293826440 待售
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ID: 293826440
晶圓大小: 2"-8"
優質的: 2006
E-Beam evaporator, 2"-8"
Substrate:
Material: Si wafer, Si + Mo sintered substrate, Glass, GaN, GaAs
Size: φ2"-8"
Vacuum conditions:
EC-803 Rotary vane pump, speed: 1340 / 1600 L/min
CRYO-U16P Cryo pump, pumping speed (N2): 5000 L/sec
Ultimate pressure: 3 x 10^-5 Pa
Pumping time: 20 Mins to 3.0 x 10^-4 Pa
Film deposition:
E-beam evaporation 10Kw - 16Kw
Holder: Planetary
Uniformity: Within ±5 %
Substrate heating system:
Maximum substrate heater temperature: 350°C
Operation mode:
GPCS - 2700 Touch screen: PC + PLC
Evaporation system:
E-beam evaporation
Control and operation system:
MITSUBISHI Q Series PLC
PC
TFT LCD Touch panel monitor
Cooling water: 25 - 39 L/min, 20 - 28°C, 0.35 - 0.7 MPa
Back pressure ≤0.05 MPa
Compressed air: 0.4 - 0.7 MPa
Power supply: AC200 ±10%, φ3: 50Hz, 50 KVA
2006 vintage.
ULVAC EI-5是為各種工業應用而設計的濺射設備。用於薄膜沈積、蝕刻、材料改性等。該系統由一個控制器、一個腔室、一個沈積源和相關的真空泵組成。先進的控制器為控制設備及其運行的各種參數提供了卓越的精度和可重復性。具有先進的沈積過程精密控制溫度控制和各種薄膜均勻沈積的頭端配件。濺射室采用雙磁控管，圓形橫截面設計，由鋁制成。它具有空氣絕緣的內部和電絕緣的外部，以提供卓越的性能和安全性。設計用於100W或200W功率運行，適用於中、大面積薄膜沈積。濺射源允許在單個循環中沈積20nm的塗層，並且可以在卸載和半加載模式下操作，以提高沈積速率。EI-5機器配備了多種真空泵，包括渦輪分子泵、離子泵和機械泵。渦輪分子泵可以達到10-2 Pa的基本壓力，能夠快速泵送速度達到200 L/s。離子泵和機械泵非常適合不需要高速泵送但仍需要低極限壓力的應用。ULVAC EI-5濺射工具有一個高級控制面板，可以用配方和用戶友好界面編程。它還具有用於最佳溫度控制的腔室溫度傳感器和防止電子在真空中從粒子反向散射的安全圈。EI-5資產適用於許多不同的工業薄膜應用，包括電子元件、醫療植入物、光學裝置、汽車元件和裝飾塗層。其卓越的精度、可重復性和多腔室配置使其成為許多應用的理想選擇。憑借其先進的功能和用戶友好的界面,ULVAC EI-5濺射模型一定能滿足您的所有需求。
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