二手 ULVAC EI-5 #9107280 待售

ULVAC EI-5是一種先進的用於薄膜沈積的濺射設備。它提供了5室同時濺射（2室對3室），在濺射方面具有無與倫比的靈活性和均勻性，使其成為高性能半導體和MEMS器件各種應用的理想選擇，包括硬磁性和軟磁性材料。EI-5的高精度偏置濺射能力在廣域內提供了最高的過程均勻性,從而在晶圓上實現了卓越的產品一致性。該系統的設計特點是為精確控制而設計，允許用戶從各種濺射過程中進行選擇，如高速率直流濺射、高通量脈沖直流濺射和非常高速率的混合直流/脈沖磁控管濺射。可調腔室尺寸提供獨特的能力，以適應任何基板尺寸，包括大型框架。ULVAC EI-5單元還提供了優化的濺射設計，提高了薄膜沈積的均勻性和目標利用率。最佳目標設計消除了使用多個小目標的需要,從而簡化並降低了濺射過程減少的成本。此外，濺射陰極上的內部屏蔽設計有助於消除磁性視線風險，防止腔室之間的交叉汙染。閉環過程監控結果一致,有助於優化運行時間和質量。EI-5配有各種真空組件和配件，以滿足最苛刻的要求，如濺射源、電源、氣體處理、過程控制器和安全系統。ULVAC EI-5既易於使用,又性能卓越,是尋找能夠提供可靠、高質量產品的濺射機的用戶的必備產品。通過模塊化、可擴展的設計,它可以滿足從簡單到苛刻的應用程序的各種要求,並且是那些尋求降低成本和最大化性能的人的理想選擇。