二手 ULVAC Ei-5K #9248803 待售

ULVAC Ei-5K是一種單目標金屬濺射設備，用於半導體制造和航空航天應用。該系統是一種超高真空濺射技術，具有很高的工藝控制水平。它具有一個4.5 x 6英寸的大濺射目標和兩個5英寸的濺射頭,可以滿足各種流程請求。該機組采用ULVAC專利的ULVAC EI 5K磁控管源，對濺射材料進行最大電離，並獲得最佳目標功率。這增加了對目標的離子轟擊，從而提高了材料沈積均勻性。機器的高功率水平也確保了高沈積速率和更高效的濺射過程。Ei-5K具有完全定向的離子源，可以量身定制以匹配目標材料的形狀。這與先進的光發射光譜（OES）工具相結合，該工具提供沈積監測，並允許先進的過程控制。該資產還配備了能優化工藝環境以實現高質量沈積的氣體輸送模型。設備多功能，可沈積鋁、銅、鉻、鎢等金屬。也可用於沈積薄膜，用於介電和抗反射塗層的應用。另外，濺射系統用途廣泛，可以適應各種技術，如成分控制、梯度濺射和反應性濺射。EI5K采用高性能塗層輸送裝置設計，具有良好的沈積均勻性和可重復性。它還具有溫度範圍為-20C到+150 C的基板支架。這允許在塗層過程中對基板進行溫度控制，這有助於確保高質量的材料沈積。總體而言,ULVAC Ei-5K為需要一致結果的金屬濺射應用提供了經濟高效的解決方案。先進技術和高精度工藝的結合提供了可靠的結果，同時確保了較低的運營成本。這種濺射機具有多種特點，非常適合各種應用，提供了可靠高效的塗層工具。