二手 ULVAC Ei-5K #9302604 待售

製造商
ULVAC
模型
Ei-5K
ID: 9302604
晶圓大小: 2"-6"
優質的: 2011
Sputtering system, 2"-6" Batch type High vacuum evaporation system for metal 2011 vintage.
ULVAC Ei-5K濺射設備是制造高質量薄膜和厚膜的最先進的沈積系統。它結合了傳統和新穎的塗層技術,使其能夠與多種材料一起工作,包括金屬、氧化物、氮化物、碳化物和矽化物。ULVAC EI 5K非常適合要求高精度、超低熱質量沈積和高沈積速率的應用。Ei-5K與一系列基材相配合,包括鋁、鉬、銅、鉻、鈦、氧化鋁和石英。該濺射裝置配備了ULVAC電子線射頻/ICP源,允許在廣泛的濺射條件下進行優化。該機還可以容納廣泛的盾牌,如E-Shield和E-coat。EI5K提供雙腔室操作,允許沈積具有高通量的復雜材料。磁控管源和基板級可以配置成相反的方向,允許獨立的雙向濺射。此外,該工具可容納若幹目標,從每個艙室的一個目標到每個艙室的多個目標。ULVAC Ei-5K能夠在考慮壓力、沈積速率、溫度和蝕刻速率等不同參數的情況下生產各種材料的高質量薄膜。為了獲得卓越的性能,ULVAC EI 5K具有動態等離子體控制資產,可對目標流量、功率和/或基板偏差進行實時監控和閉環控制。Ei-5K還配備了沈積監控器控制模型,可以準確監測過程中的所有元素,如薄膜的厚度、沈積速率和原子含量。該設備還為用戶提供了一個圖形用戶界面,以便於流程設置。總之,EI5K濺射系統是高質量薄膜沈積的一種優秀儀器。它提供了廣泛的基板選項和目標,動態等離子體控制,以及準確的沈積監測。這使得ULVAC Ei-5K需要精確和超低熱量沈積的濺射應用的理想選擇。
還沒有評論