二手 ULVAC Ei-5K #9305863 待售

ULVAC Ei-5K是一種高性能濺射設備，設計用於薄膜的精確可靠沈積。它擁有先進的技術，包括高功率脈沖偏置濺射和電子束突擊濺射模塊。ULVAC EI 5K被設計用於各種材料的快速沈積，從而能夠形成金屬膜、介電膜和器件結構。Ei-5K具有水冷磁控管濺射源和三軸機動運動控制，用於精確控制基板屏蔽和兩個獨立和獨立控制的加速度和偏置源。用於金屬和介電層均勻沈積,具有良好的附著力和化學計量性能.集成的高穩定性、高分辨率監控系統保證了高質量薄膜的精確濺射。EI5K的電子束突擊濺射模塊提供了對沈積金屬薄膜微觀結構的微粒控制。該模塊精確控制了光束的轟擊能量和通量，從而降低了應力，增強了結晶度，改善了薄膜表面的正向散射。ULVAC Ei-5K的控制器為各種應用提供了多種預編程配方，如用於擴散屏障的多層堆棧、高折射率層、低k電介質。ULVAC EI 5K還具有改進的氦氣背面等離子體模塊,以提高等離子體均勻性,以及先進的磁流體動力學（MHD）控制,以穩定溫度和減少在電平工件座椅期間的波動。該裝置設計用於高通量處理，使導電和非導電金屬塗層、介電膜以及光學層能夠快速、均勻地沈積和沈積薄膜。最後，該機配備了先進的安全功能，包括板式跳閘開關、可選的射頻等離子體發電機、氣泵、氣體輸送系統以及用於清潔氣體輸送的濕度泵。所有這些特點相結合，使Ei-5K成為高精度薄膜沈積在半導體、光電子和耐磨塗層應用中的理想選擇。