二手 ULVAC Ei-5K #9364554 待售

ULVAC Ei-5K
製造商
ULVAC
模型
Ei-5K
ID: 9364554
晶圓大小: 2"-6"
E-Beam evaporators, 2"-6".
ULVAC Ei-5K是一種用途廣泛且精確的濺射系統,旨在將薄膜沈積到各種基板上。該系統配備了一個5室集群工具,允許可定制的工藝配置,以提供大量的材料沈積選項。利用ULVAC-VHS技術,提供高質量的濺射塗層,具有先進的方向均勻性控制和優異的應力控制性能。ULVAC EI 5K的機械臂可根據滿足不同工藝要求所需的各種角度進行調節。它還提供了主要的抽水能力,在五個腔室中的每個腔室都裝有冷凍泵,用於動態抽水控制。它利用真空負載鎖和快速排氣關閉閥進行快速沈積過程循環,而其現代控制器界面提供了增強的過程控制和控制系統診斷。為保證高保真膠片的生長,Ei-5K配備了先進的定向均勻控制軟件。這保證了應力和沈積速率之間的完美平衡,使得令人難以置信的均勻膜沈積和應力控制。等離子體監測的多階段保證了高膜質量和更大的吞吐量。它還提供了一個可選的視口,用於對工藝進行視覺確認,以確保工藝性能得到滿足,以及一個激光幹涉儀,用於對較大的基板進行原位工藝監控。EI5K利用射頻和直流磁控管濺射以及熱蒸發、電子束和輝光放電技術。此外,集成的DC-FIB允許在諸如MEMS或復雜的3D對象之類的堅韌塗層基板上對薄膜進行精確的圖樣沈積。它還利用了多種氣體系統,其中包括氙氣、氧氣、氮氣、六氟化物、K等,提供精確的物質流量控制和氣體流量模式。最後,ULVAC Ei-5K經過專門設計,具有靈活性和效率,可使軌道濺射室對環境的影響較小。它的模塊化設計方便用戶使用,可通過增加腔室或元件來擴展增長,而其快速的循環時間和可靠的操作使其成為許多要求苛刻的薄膜沈積應用的理想選擇。
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