二手 ULVAC ei-5t #293814829 待售
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單擊可縮放
ID: 293814829
E-Beam evaporator
EGL‑406M EB source
HPS‑1000S‑100 power supply
Beam sweep control
Vacuum сhamber
Hearth rotation feedthrough
Internal jig system
Substrate heating system
Source shutter
(8) Lamp heaters: 6 kW
(4) Quartz glass shields
Heater power supply
Temperature controller
Thermocouple
CRYO‑U16P / C30VR vacuum pump
LR90 dry pump
Roughing valve
Vent valve
CRTM‑9000 deposition controller
Sensor shutter
PLC / PC control
Touch panel operation
Electric parts set
Compressed air system
Cooling water system
208V → 200V step‑down transformer
Vacuum gauges:
G‑TRAN BMR2
G‑TRAN BPR2
G‑TRAN SP1.
ULVAC EI-5是日本領先的真空技術和薄膜沈積設備制造商ULVAC的高精度濺射設備。該系統非常適合用於各種研究、開發和生產應用，因為它配備了多種功能以最大化其性能。EI-5是一種先進的濺射裝置,具有高精度的過程控制、多目標配置和較大的工作區域等多種功能。它采用單柱結構建造，能夠處理直徑達400mm的晶片。此外，這種濺射機具有很高的均勻性和極好的可重復性，適合生產多層結構。為了滿足其高性能標準，該工具配備了交叉連接的等離子體發生器，在廣域內產生均勻的等離子體。這種高性能等離子體允許改進高密度沈積控制，使用戶能夠產生具有增強同質性的層。此外，資產的高精度控制減少了沈積過程中顆粒和潛在缺陷的發生。該模型具有多目標配置，可以在單個晶片上處理多種材料。這意味著用戶可以創建各種層,並在單個設備中進行各種配置。該系統還能夠處理各種材料，包括金屬、氧化物和半導體。此外，該單元還配備了一些安全功能，如自動關閉機構，在緊急情況下關閉機器。此外,還可以遠程監視該工具,使用戶可以從自己的辦公室密切關註資產的性能。ULVAC EI-5是一種用戶友好可靠的濺射模型,具有多種先進的工藝和設計,可提供高效和高質量的沈積性能。該設備可用於廣泛的研究、開發、生產和維修過程。EI-5具有驚人的精度、多目標配置和安全特性,是任何應用程序的理想濺射系統。
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