二手 ULVAC EI-7K #9402605 待售

ULVAC EI-7K是一種用於研發（R&D）的多源中功率濺射設備。該系統結合了緊湊設計的便利性和多源濺射能力的靈活性。ULVAC EI 7K最多可容納四個陰極，每個陰極都能進行射頻或直流濺射，以及第五個陰極進行電子束蒸發。該單元支持多種不同的基材，適用於薄膜、多層膜和其他細膩的電子材料的生產。EI-7K包括一臺堅固的真空機，底壓範圍為10-7至10-2 Torr。該工具采用超低壓和溫度下泵循環設計，能夠快速高效地疏散腔室。為壓力和溫度控制提供了一種主動渦輪分子泵送設備，它允許精確的工藝條件，以及精確和可重復的真空環境。EI7K具有兩個鎖載室，可快速進入主腔室，可快速更換基板，不會中斷工藝。該模型可以容納多種基材尺寸，從小塊到全晶片。ULVAC EI-7K還包括先進的數字控制器和顯示器、電動頂板和精確的基於幾何形狀的渦輪分子泵。該設備采用易於使用、軟件可配置的用戶界面,並配備了多種自動化功能。它提供靈活的控制功能,並提供一系列的氣流和系統配置。ULVAC EI 7K具有多種安全系統，與行業標準完全兼容，提供了薄膜生產所需的可靠性和精度水平。EI-7K是一個先進的濺射裝置，為顯示器、電子、光電子和太陽能電池等行業的應用提供了最佳解決方案。它是研究實驗室和工業生產薄膜材料的理想機器，提供開發和生產一系列高質量薄膜的能力。