二手 ULVAC EI-7K #9402606 待售

ULVAC EI-7K是一種用於薄膜沈積過程的濺射設備。具有高精度和大基板加工能力，大面積沈積速率均勻。它利用單一的高電流磁控管陰極，以及兩個較大的射頻偏置（RFB）電極，導致更大的沈積速率範圍，從低功率到高功率濺射。ULVAC EI 7K還配備了變頻電源，允許控制沈積速率水平，用於不同的濺射過程。除了RFB和磁控管陰極外，EI-7K還有強大的離子束用於蝕刻和表面改性。這種離子束有助於產生均勻的薄膜沈積速率和高質量的表面光潔度。EI7K還提供多種工藝模式,包括：高功率濺射、低功率濺射、多堆棧濺射和離子束輔助沈積（IBAD）。ULVAC EI-7K的濺射室設計為能夠容納直徑達600mm的大型基板。它還能夠接受許多種類的底物，包括：石英、二氧化矽、氧化鋁和氮化氙。腔室采用圓柱形設計，采用頂載系統，旨在通過消除人工給藥的需要來降低成本和提高效率。ULVAC EI 7K還具有獨立的溫度控制單元，允許在過程參數內進行溫度控制。EI-7K濺射機是一種先進的薄膜沈積和蝕刻工具。它具有廣泛的工藝能力和特點，從低功耗到高功率濺射，以及一系列的基板類型。其強大的離子束有助於均勻的薄膜沈積和高質量的表面光潔度。其圓柱形設計采用頂載工具，有助於降低成本和提高效率。最後,其獨立的溫度控制資產有助於使過程保持在參數範圍內。EI7K是薄膜沈積和蝕刻工藝的理想工具。