二手 ULVAC Entron EX W200S #9266623 待售

ULVAC Entron EX W200S
ID: 9266623
晶圓大小: 8"
優質的: 2006
Sputtering system, 8" SiO2, TiO2 2SP Chamber 2006 vintage.
ULVAC Entron EX W200S是為廣泛應用而設計的高性能濺射設備。它非常適合薄膜沈積、蝕刻、制圖等薄膜應用。該系統采用先進的渦輪分子泵送裝置,可提供良好的真空環境,具有良好的真空穩定性和可靠性。Entron EX W200S使用具有4維運動能力的腔室,給予精確的樣本操縱。它有一個可旋轉的基板級以及一個特定程度的傾斜濺射靶子,允許用戶以廣泛的角度沈積,以提高沈積質量。通過非接觸式、非磁性、非交換式、激光光學幹涉儀控制基座定位,保證了運動的高精度。ULVAC Entron EX W200S與鋁、鎳、鉻、鈦、鋅、金、銀和合金等多種材料兼容。它能夠用脈沖電源控制6個磁控管源,可以濺射元素材料或目標材料,以增加薄膜均勻性。此外,離子束光源有助於平滑沈積的薄膜,增加對基板的附著力。濺射過程在很大程度上由帶有直觀圖形用戶界面的板載過程管理軟件實現自動化。它能夠以可靠的重復性執行復雜的多步濺射過程。本機還具有廣泛的工藝監控選項,如基板溫度、壓力、電流、電壓等。最後,使用實時在線聯鎖工具可確保資產的安全運行。總之,Entron EX W200S是一種強大而精確的濺射模型,為用戶提供可靠的薄膜沈積和蝕刻結果。它非常適合任何需要高可靠性和優異效果的實驗室。
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