二手 ULVAC Entron EX W300 #293587264 待售

ULVAC Entron EX W300
製造商
ULVAC
模型
Entron EX W300
ID: 293587264
晶圓大小: 12"
優質的: 2012
Multi-chamber sputtering system. 12" (8) Chambers 2012 vintage.
ULVAC Entron EX W300是一種功能強大且用途廣泛的高性能濺射設備,專為要求苛刻的濺射沈積應用而設計。其先進的技術提供了高速率的均勻性,最佳的工藝控制和卓越的可重復性為優越的薄膜塗層性能。ULVAC ENTRON-EX W300具有兩個濺射源,兩者都能夠同時沈積在特高壓室中。該源可以獨立使用,也可以串聯使用,同時用於兩種不同材料的同軸濺射。每個源都具有回火濺射陰極和可編程晶片級,用於單目標或雙目標火炮操作。ENTRON EX W 300濺射系統還提供卓越的重復性和高工藝均勻性。設備的設計允許根據用戶的流程需求進行四種不同的配置。它可以編程為自動控制介質旋轉、氣流和溫度設置,具有很高的精度和精確度。用戶還可以自定義機器參數和設置,以單獨升級刀具性能。其他主要功能包括:端點檢測、材料映射、非玻璃掩模處理和溫度控制。此外,ENTRON-EX W300還設計了一個集成的冷卻劑反饋回路和溫度傳感器,以監測和調整室內的環境溫度。這樣可以確保濺射薄膜層達到最佳的附著力、均勻性和一致性,同時確保腔室始終處於熱控制狀態。該資產還提供了一系列自動化選項和高級控制功能,如自動配方、邊緣濺射、可編程目標偏差和多個晶圓沈積。Entron EX W300可配置用於多種薄膜應用,包括光電、高級基板和半導體器件。總體而言,ULVAC ENTRON EX W300濺射模型是高速率、均勻、可重復沈積應用的絕佳選擇。其先進的自動化、卓越的性能和靈活性使其成為需要最高級別工藝控制的薄膜沈積工藝的理想解決方案。
還沒有評論