二手 ULVAC Entron N300 #9314071 待售

ULVAC Entron N 300濺射設備是為全球高科技生產薄膜的可靠高效工具。采用獲得專利的ETES方法，Entron N 300能夠沈積各種材料的薄膜，從U-Ni到AuGe等，同時保持高均勻性和工藝重復性。ULVAC Entron N 300具有易於使用的操作系統和直觀的軟件界面,能夠精確控制薄膜厚度和組成。它還允許兩個主要濺射源的獨立控制，使其成為多層沈積過程的理想選擇。該機組配備了直徑300 mm的End-Hall磁控管源，並設有Turbo核心、高性能機械泵和高效等離子發電機。這種構型使均勻沈積具有很高的均勻性和效率，總排放量最小。恩特龍N300專為TFT液晶、FPD及相關市場而設計，在整個300 mm晶圓尺寸上實現了優於± 0.1微米的基板均勻性。ULVAC Entron N 300憑借其高精度的等離子體生成機，能夠沈積具有透射率和反射率等多種光學特性的薄膜。此外，Entron N300提供了成分或結構缺陷最小的高品質薄膜。其獨特的超高功率模式在不影響膜厚度均勻性的情況下將沈積速率提高到3X。穩定的等離子體環境確保了對沈積動力學的精確控制，這也可以通過自動監控工具進行監控。最後,ULVAC Entron N 300得到了ULVAC廣泛的濺射工藝工程知識和經驗的支持。專家認為，其所有組成部分都是可靠和高效的，同時將維護保持在最低限度。這使得Entron N 300成為研發和工業過程的理想選擇,因為它能夠制造均勻的薄膜。