二手 ULVAC Entron #9038422 待售

ULVAC Entron是設計用於濺射薄膜的高端濺射設備。它是一種精心設計的用於濺射薄膜層的工具，可用於多種應用，包括半導體生產、薄膜研發和工業過程。系統基於雙磁控管配置。這意味著磁控管被「鎖定」在一起並共享相同的濺射弧線。磁控管產生具有控制光束發散和減少離子轟擊的濺射弧。整個機組由高電流直流電源供電。Entron被設計為提供均勻、高質量、化學計量性能優異的濺射膜。它也是為最佳沈積速率和提高吞吐量而設計的。針對濺射沈積的最佳均勻性，對其超真空室進行了優化。ULVAC Entron具有內置的靈活性,允許沈積多層高質量薄膜。還可以以良好的電子透明度濺射金屬、合金、電介質（例如Al2O3或SiN4）和氧化物層，使其非常適合用於光伏和電子應用。恩特龍還有幾個特點，使其成為薄膜開發和生產的絕佳選擇。它具有精密控制的薄膜傳輸、先進的壓力和溫度監測、自動端點檢測等幾個高端功能。此外，ULVAC Entron擁有一臺集成的流體控制機器，能夠高效混合主動濺射氣體，同時保持高度的過程控制。恩特龍還配備了高性能、穩健的控制工具。該資產包括多層膜的自動厚度控制、維護維護記錄存儲、批處理功能以及先進的離子能量和濺射電壓優化等幾個特點。該模型具有較強的精密工藝控制能力，可實現基於反饋的薄膜沈積優化。歸根結底，ULVAC Entron對於希望濺射高質量薄膜的運營商來說是一個極好的解決方案。其雙磁控管配置和精確控制特性使其非常適合制造商和研究實驗室。其精密控制的沈積速率保證了薄膜質量最高，提供了均勻準確的結果。它的靈活性允許開發復雜的多層堆棧，其預先編程的功能使Entron成為高生產運行的高效解決方案。