二手 ULVAC Entron #9159056 待售

ULVAC Entron是一種用於各種工業應用的濺射設備。它設計用於在半導體晶片和其他扁平基板上生產薄金屬或絕緣氧化膜。恩特龍系統利用高頻電場在金屬濺射靶和基板之間產生電弧，導致物料從靶上去除，物料沈積到基板上。電場還能均勻地加熱目標，使基板的3D形狀得以掃描。ULVAC Entron濺射裝置配備了一系列特性和技術，以確保更高的過程重復性和均勻性。這些包括先進的過程控制算法、電子壓力控制、增強的等離子體穩定性和過程均勻性補償。Entron機器包括多源直流磁控管濺射技術，該技術可實現高沈積速率，最大程度地減少濺射目標和基板的損壞。雙頻技術允許獨立控制磁控管電源-提供更高的沈積均勻性。獲得專利的Substrate Guide機械手提供了高精度,並且可以更輕松地在平面基板和具有復雜3D配置的基板之間切換。與傳統的濺射系統相比,ULVAC Entron工具具有許多優勢,包括改進的過程重復性、更大的一致性、更低的功耗和更高的沈積速率。其緊湊的設計也使其非常適合在非常有限的空間中進行大批量生產。恩特龍是多種應用的理想濺射資產，包括金屬化半導體晶片、IC封裝、電極和微電子、不銹鋼和鎂基板以及裝飾膜。它也適用於廣泛的材料，如氧化鋁、鉻、氙、鉬和鈦。