二手 ULVAC Entron #9211052 待售

ULVAC Entron濺射系統用於為多種材料提供薄膜塗層。Entron設備可以沈積薄膜，從幾埃到千分之一英寸不等，使其成為制造各種設備的理想工具。它是一種高穩定性、多源濺射系統，適用於從摩擦學到光學塗層系統的一系列應用。ULVAC Entron單元設計用於提供均勻、可復制的薄膜沈積,並對薄膜厚度進行高度精確的控制。它可以在串聯或並聯配置中容納多達四個濺射目標。每個濺射源都提供了自己的電源和控制器，因此機器可以用來沈積多層或單層薄膜以及可配置的元件組合。Entron工具具有閉環濺射控制資產，可精確監控沈積速率並優化過程。該模型具有精確的真空控制功能，具有全金屬室和掃描電子顯微鏡，可提供樣品成像和數據采集。ULVAC Entron設備非常適合沈積硬磁膜和軟磁膜,包括FeCo、NiFe和CoCr。它也是沈積諸如金剛石狀碳（DLC）、的、的、的、的廣泛材料的理想選擇。此外，該系統還可用於中子和X射線探測掩模設計，以及納米結構和薄膜系統的制造。另一個優點是，Entron裝置具有低能基板加熱源，可以快速熱處理沈積膜。這種快速熱處理能精確控制薄膜材料的性能和結構，並有可能改善基材的性能。總體而言，ULVAC Entron濺射機是目前最先進、用途最廣泛的薄膜沈積系統之一，以高沈積速率提供精確、高質量的薄膜塗層。其靈活性和高性能使Entron成為滿足各種薄膜沈積需求的理想選擇。