二手 ULVAC MLX-3000N #9271145 待售

ULVAC MLX-3000N濺射設備是為半導體芯片生產而設計的最先進的濺射系統。該單元的主要功能是將各種材料的薄膜沈積在晶片和其他基材上。這臺機器具有多種特性，確保每個晶片上的薄膜沈積質量最高。該工具由真空室、目標室和陰極濺射源三個主要部件組成。真空室的設計是最有效的.該室采用多區隔離和抽水裝置，保持了10−8 Torr和更低的真空壓力，在整個基板上具有極好的均勻性。裝有濺射目標的目標室設計得極其穩定，提供可重復和可預測的性能。最後，陰極濺射源保證了材料在晶片上的均勻和可預測的沈積。MLX-3000N可提供高質量、可重復的結果,這對於半導體芯片的生產至關重要。它提供了多種功能，以確保盡可能高質量的沈積。利用其有效的氣體凈化模型，該設備能夠在百萬立方厘米內達到一個粒子的粒子水平。內置沈積均勻性監測系統可確保薄膜厚度均勻到納米級。該單元還包括一臺高精度的監控機器，能夠以納米精度測量薄膜厚度，並以高精度監測腔內溫度。在可控性方面,ULVAC MLX-3000N具有多種用戶友好功能。受控可變電源允許精確控制濺射過程，從而產生一致的薄膜厚度和均勻性。高效的遠程控制工具使用戶能夠輕松地調整計算機的設置。該資產還包括防止過熱並確保濺射過程保持穩定的內置安全系統。最後，MLX-3000N具有多種特性，使其成為半導體芯片生產的最佳選擇。該模型配備了一個易於接近的裝載站，用於基板裝卸。此外，這種設備設計成本效益高，每個沈積周期成本低。ULVAC MLX-3000N對於需要可靠和經濟高效的濺射系統來滿足其半導體芯片生產需求的用戶來說是一個極好的選擇。它兼具特點和精度，是可靠、可重復的薄膜沈積的理想選擇。