二手 ULVAC MLX-3000N #9273662 待售

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ULVAC MLX-3000N
已售出
製造商
ULVAC
模型
MLX-3000N
ID: 9273662
晶圓大小: 5"
Sputtering system, 5" (3) Chambers.
ULVAC MLX-3000N是一種雙磁控管濺射設備,用於半導體和光電器件制造中的薄膜沈積。它提供高速、數控混合濺射系統,能夠將金屬、氧化物、氮化物和合金薄膜沈積在各種底物上。MLX-3000N配備了兩種目標源:一種是大功率直流磁控管濺射源,另一種是中功率射頻濺射槍。每個源都可以獨立操作,允許多種沈積方法。其中包括一個先進的薄膜厚度監視器,可以在濺射過程中進行精確的厚度測量。此外,ULVAC MLX-3000N具有高速晶圓穿梭裝置,一次最多可快速裝卸4個晶圓。該單元具有高度靈活的源配置,允許使用各種目標材料和基材尺寸。直流磁控管源具有良好的沈積速率和良好的薄膜質量.它配備了一個電極電源,允許對薄膜沈積進行高精度的控制,以及對沈積室內氧氣速率的精確控制。此外,射頻濺射槍設計用於沈積小薄膜和/或厚薄膜。除了薄膜沈積外,MLX-3000N還提供全面的等離子體工藝,包括蝕刻、雜質吸附、清潔、表面鈍化等表面處理。該機配備了先進的蝕刻控制器,可實現高質量、精密的各類材料蝕刻。此外,它還可用於光致過程,如LED和OLED設備制造。總體而言,ULVAC MLX-3000N是一種經濟高效的高速混合濺射工具,非常適合半導體和光電器件制造。它提供高速、多用途的沈積,使制造商能夠生產具有最佳均勻性和質量的薄膜層。此外,其全面的等離子體處理能力使資產適合廣泛的應用。
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