二手 ULVAC MLX-3000N #9279394 待售

ULVAC MLX-3000N
製造商
ULVAC
模型
MLX-3000N
ID: 9279394
優質的: 2000
Sputtering system Multi chamber type (C to C) Substrate size, 6" diameter (2)Cassette-chamber (2)Sputter chamber (1)Etching chamber Vacuum pump: CRYO pump Dry pump Sputter source: Cathode 12" diameter DC power source Process gas: Ar 2000 vintage.
ULVAC MLX-3000N是為各種應用而設計的高性能濺射設備。利用目標驅動的串聯濺射工藝在基板上沈積精確均勻的薄膜。MLX-3000N提供了控制膜厚度和化學計量的精確離子劑量能力,以及高膜均勻性和可重復性。系統使用四個電源,這些電源可0.01V增量調節,脈沖頻率可調節,離子電流範圍從100nA到1mA。該單元還有一個易於操作的軟件平臺,使用戶能夠根據特定沈積需求定制參數。濺射機包含360°雙目標、四柱腔室,標準壓力範圍為0.004-2.8 Pa (30 mTorr-400 mTorr)工作溫度可達100 °C。它配備了高清數字成像機構和先進的視頻處理技術,以便更好地查看基板表面。ULVAC MLX-3000N支持直流和脈沖直流濺射以及反應性/高離子濺射。它還能夠對高反應性濺射過程進行電弧濺射。該工具具有自動目標控制、動態腔室清潔、基板加熱控制、目標保護、軟件控制定時、自動基板支架張力調節、自動腔室維護等多種特點。這些特性使MLX-3000N成為許多應用的理想選擇,包括用於平板顯示器的氮化物、氧化物、金屬和氧化氮化物的沈積、薄膜電池、傳感器、光學塗層以及其他各種電子塗層需求。資產還提供了一些安全功能。ULVAC MLX-3000N的加工室和背襯磁鐵采用磁屏蔽保護,免受電磁幹擾,模型中包含各種安全傳感器,以確保安全運行。此外,MLX-3000N還配備了先進的真空監測設備,可實時監測和顯示真空系統的狀況。該單元還實施了一系列自我診斷,設計用於在操作員在處理過程中檢測到任何問題或潛在危險時發出警報。總體而言,ULVAC MLX-3000N是一款出色的濺射機,可為各種應用程序提供精確、可重現和統一的結果。它具有易於使用的界面、高質量的特性和安全特性,是滿足許多沈積需求的理想選擇。
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