二手 ULVAC SDH-4550L #9313962 待售

ULVAC SDH-4550L濺射設備是為低溫半導體沈積和光學薄膜塗層等應用而設計的高性能、全自動真空沈積設備。它使用一系列先進的功能和尖端的技術來提供一致和統一質量的產品。SDH-4550L配有串聯濺射沈積系統，允許多個並發濺射目標。這允許薄膜以不同的材料組合沈積。ULVAC SDH-4550L具有自動源加載和晶圓傳輸機制,提供了一個快速高效的生產單元.該機器能夠在串聯陣列中濺射多達五個目標。此濺射陣列可配置為兩條獨立的濺射線,用於多目標操作和多材料組合。SDH-4550L的集成計算機控制工具允許用戶為每個目標選擇、編程和監控各種濺射參數。ULVAC SDH-4550L還具有強大的真空疏散和評估系統,允許快速、高質量的真空循環.利用雙級旋轉式葉片泵，實現了快速高效的真空排空。它還包括高效的閥門系統，提供對沈積過程中底物溫度和氣體流動的精確控制。憑借這些優異的特點，SDH-4550L能夠生產出具有高可重復性和均勻性的薄膜。此外，ULVAC SDH-4550L采用先進的射頻基板偏置資產，可穩定薄膜層，改善平面內晶體結構，防止顆粒遷移。該模型還包括一個二次偏置發生器，允許最大程度的靈活性，同時調整基板偏置條件。這種特性對於生產復雜氧化物薄層特別有用。SDH-4550L濺射設備還提供先進的冷卻和溫度控制。該系統配有高效的水冷換熱器和溫度控制模塊，允許在濺射過程中精確調整工藝溫度。這允許用戶生產更薄的薄膜，減少浪費並保持濺射層厚度的均勻性。總體而言，ULVAC SDH-4550L濺射裝置是一種高效、自動化和先進的沈澱機，可提供可靠的薄膜生產。SDH-4550L具有多種濺射目標和先進的真空冷卻系統，是需要高效優質沈積的理想選擇。