二手 ULVAC SIH-4545 #9050844 待售

製造商
ULVAC
模型
SIH-4545
ID: 9050844
優質的: 2005
Horizontal inline sputtering system Includes: 2-Chamber Board try transport Reverse sputtering mechanism (500 W) Automatic film formation by exhaust operation Automatic thickness meter (16) pieces substrate holders: 460 mm x 470 mm (4 in/piece) Exhaust system: TMP, RP, MBP Up to high-rate magnetron cathode Sputtering source: 5" x 15" x 1" Power: DC (5 kW), RF (5 kW) switchable Gas system: Ar (100 sccm), O2 (50 sccm) Control system: Sequencer, touch panel system 2005 vintage.
ULVAC SIH-4545是用於制造微電子器件的先進濺射設備。它被設計成提供均勻、精確的薄膜沈積到基板上,具有很高的準確性和可重復性。該系統還可用於復雜結構的薄膜沈積,如互連和金屬氧化物電阻器。SIH-4545單元由四個獨立的濺射源和一個鎖載室組成。這些源分別由2800W磁控管供電,安裝在機器的正面。這使得選擇的目標材料可以均勻均勻地濺射,並具有廣泛的加工氣體,其中包括氙氣、氮氣和氧氣。其中包括一個可重復的高分辨率快門工具,用於精確控制等離子體濺射過程。鎖載室設計用於快速樣品加載,並提供自動化樣品分析和樣品表面預處理(如等離子體活化清潔和等離子體增強型化學氣相沈積)。此功能進一步增強了資產的多功能性。ULVAC SIH-4545還具有其他一些旨在提高生產力的功能。例如,它可以達到高達2000納米/分鐘的高沈積速率。根據材料的不同,它還可以在大於90%的大面積上實現高均勻性。其平均沈積均勻度在1-2%以內,模型也是為了滿足最苛刻的無缺陷薄膜要求而設計的。設備設計符合安全標準,堅固可靠,壽命超過3萬小時。它還配有一個集成的制冷系統和一個低維護水回收單元。最後,ULVAC提供了廣泛的附件,例如測量工具、過程自動化系統和可升級的Film Monitor Module。總之,SIH-4545是一種多功能、可靠、功能強大的濺射機.其廣泛的特點允許在大型基板上進行高質量和精確的薄膜沈積。它設計方便用戶,為各種微電子器件制造應用提供高性能和可靠性。
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