二手 ULVAC SIH-4545 #9055116 待售

ULVAC SIH-4545
製造商
ULVAC
模型
SIH-4545
ID: 9055116
優質的: 1988
Sputtering system 1988 vintage.
ULVAC SIH-4545是一種濺射設備,用於從各種目標沈積薄膜塗層。該系統由超高真空室、基板加熱元件、強大的射頻電源和濺射槍組成。使用加速氣體,如Ar、Ar/O2或Ar/N2,濺射槍向目標傳遞高功率的離子束,導致濺射或原子釋放到目標上。離子的這種轟擊提供了目標材料在基質上的均勻沈積。超高真空(UHV)室設計為提供1.0x10-10 Pa至10-3 Pa範圍內的基本壓力水平,由連接閘閥的2級粗加工泵和渦輪分子泵機組成。HI Speed Roughing Pump提供75至110 Pa範圍內的深度真空水平,而Turbo Molecular Pump則提供幾mPa範圍內的更高真空。這與密封室的金屬密封和烘烤操作相結合,允許一個非常幹凈的加工環境。加熱元件,通常是大功率紅外燈,在加工過程中提供對基板溫度的精確控制,允許一致和可重復的結果。SIH-4545的射頻(RF)電源在整個濺射過程中提供可靠穩定的電源。穩定的射頻功率水平,加上快速的處理速度,使得濺射機成為大型復雜基板表面的理想選擇。ULVAC SIH-4545中的濺射槍提供了可調離子源。它被設計用來產生高功率、短程的撞擊離子,從而允許快速和均勻的塗層沈積到基板表面上。濺射槍可調節產生的離子等離子體的直徑,允許精確控制所施加的塗層厚度。離子源可以配置為DC或RF操作,DC選項適用於玻璃等低靈敏度基板,RF選項適用於矽片等更敏感的基板。SIH-4545提供了一種精確、可重復和靈活的濺射工具,用於在一系列材料上生產薄膜塗層。可調離子源,結合精確的基板加熱元件和超高真空室,提供了可控清潔的加工環境,使目標材料可重復均勻地沈積到基板表面上。
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