二手 ULVAC SIV-200 #293773982 待售

ULVAC SIV-200
製造商
ULVAC
模型
SIV-200
ID: 293773982
Sputtering system Indium Tin Oxide (ITO).
ULVAC SIV-200是一種尖端濺射設備,為半導體、電子、光學和塗層行業的廣泛應用提供先進的薄膜沈積能力。該系統由全球領先的真空技術和設備供應商ULVAC設計和制造。SIV-200具有多功能設計,允許高性能濺射各種材料在基板上的精確和控制。該單元配備了多個陰極,使不同材料的沈積同時或順序實現復雜的多層薄膜結構。這種功能使得ULVAC SIV-200非常適合研究和開發以及生產環境,在這些環境中,靈活性和定制至關重要。SIV-200的主要特點之一是其先進的真空室設計,確保了沈積膜的高純度和均勻性。該機配備先進的泵送技術和精確的壓力控制機制,營造有利於優質薄膜沈積的穩定真空環境。這種控制水平對於實現可重現的成果和滿足各行業嚴格的質量標準至關重要。ULVAC SIV-200還配備了最先進的濺射目標和電源,可有效、均勻地將薄膜沈積在不同尺寸和形狀的基板上。該工具可以容納各種目標材料,包括金屬、氧化物、氮化物和合金,以滿足廣泛的應用要求。目標功率、底物溫度、氣體流量等沈積參數的精確控制,保證了薄膜性能的可重復性和一致性。除了先進的沈積能力外,SIV-200還設計用於易於使用和維護。該資產具有用戶友好的界面,使操作員能夠輕松編程和控制沈積過程。該腔室設計方便使用和維護,具有快速更換目標支架和易於清潔的表面等功能,可簡化模型的維護。此外,ULVAC SIV-200配備了先進的監測和診斷工具,以確保最佳性能和生產力。該設備具有現場工藝監測能力,如實時厚度測量和薄膜應力監測,為操作員提供有關沈積工藝的寶貴反饋。此外,集成的安全功能和診斷工具有助於防止設備故障並最大程度地減少停機時間,從而確保可靠和持續運行。總體而言,SIV-200是一個高度通用和可靠的濺射系統,為各種應用提供先進的薄膜沈積功能。ULVAC SIV-200憑借其先進的真空技術、沈積參數的精確控制、易用性和維護特性,是高質量薄膜必不可少的研發、生產環境的理想選擇。其先進的特點和穩健的設計使其成為推進創新和滿足各行業不斷變化的需求的寶貴工具。
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