二手 ULVAC SIV-200S #293637679 待售

ULVAC SIV-200S是為先進的半導體器件研發而設計的單室直流磁控管濺射系統。該設備能夠在包括玻璃、陶瓷和其他材料在內的一系列基材上生產沈積速率高達5Å/秒的高性能薄膜。SIV-200S具有高效的氣體輸送和內置的分子束線，可用於高性能材料的沈積。雙端磁控管濺射構型最多支持四個陰極和兩個陽極，使得樣品沈積具有更大的靈活性。另外，使用獨立線性可變差分變壓器（LVDT）允許單獨控制每個陰極上的線性偏置。該特性可用於提高基材的均勻性，降低充電效果。該系統的爐模裝有一系列高溫加熱爐（HOTs）和熱板，使其成為塗覆溫度敏感材料的合適選擇。熱板的溫度範圍高達1000 °C,並配有可選的熱電偶附件,可用於高度精確的溫度監控。該裝置包括一臺先進的射頻發生器，用於控制蝕刻和沈積過程中離子轟擊的頻率、大小和持續時間。ULVAC SIV-200S非常適合不同的實驗,允許使用全功能控制軟件套件調整一系列功能。這包括能夠對多個任務進行編程、實時監控多達四個晶片的樣品分析,以及從特定薄膜規格的一系列可用配方中進行選擇。總體而言，SIV-200S是一種可靠、易於使用的機器，旨在滿足先進半導體研發的要求。該工具能夠支持單個陰極控制和變頻射頻源,使其能夠產生多種薄膜效果,包括特殊的薄膜均勻性、低電荷和高沈積速率。