二手 ULVAC SIV-200S #9107294 待售

ULVAC SIV-200S是ULVAC（超精密真空技術）制造的濺射設備。它是一種超小型濺射沈積系統，設計用於在平板等大型基板上塗覆ITO、A-Si等高透明度薄膜。該裝置設有2源濺射室、單源反應性濺射室和高溫大氣壓氧化室，可同時沈積導電膜和絕緣膜。SIV-200S是一種低能耗、高吞吐量的閉環微加工機。ULVAC SIV-200S利用獨特的2源磁控管濺射技術來沈積薄膜。該技術在優化離子轟擊的同時，最大限度地降低了樣品表面濺射顆粒的風險，以確保膜的均勻性。經高沈積率（最高50納米/分鐘）證實，濺射過程效率很高。此外,由於能夠同時存放多達4個目標,因此該工具具有較高的吞吐量能力。單源反應性濺射室利用緊湊的射頻磁控管沈積ITO、A-Si等氧化膜。獨特的單源濺射技術能夠降低汙染風險，提高薄膜均勻性，將沈積速率提高到1500 nm/min。資產還能夠結合清除機制，以確保最佳的離子轟擊。SIV-200S還具有高溫大氣壓力氧化室，用於沈積耐火氧化膜。這一特性允許金屬氧化，使氧化速率提高4倍，同時在薄膜中保持高純度和均勻性。總體而言，ULVAC SIV-200S濺射模型是導電膜和絕緣膜高效沈積的理想選擇。其先進的技術和特點使其非常適合在大型基板上沈積高透明度薄膜等任務，使得該設備非常適合平板顯示器的生產。