二手 ULVAC SIV-200S #9266436 待售

ULVAC SIV-200S是一種用於薄膜沈積的多空心陰極濺射設備。該系統旨在為金屬、半導體、絕緣體等多種材料提供優越的均勻薄膜沈積。SIV-200S具有獨特的兩級磁控管濺射頭，可在各種組件上均勻沈積薄膜。此外，該單元對於較厚的碳層和較高溫度的基板是最佳的。ULVAC SIV-200S機的核心是其混合空心陰極濺射頭。頭部有兩門可單獨操作的磁控管槍，允許目標和輔助材料的濺射。這種混合頭可以沈積具有晶體學取向控制的材料或對多種材料進行獨立沈積。這兩種可分別調節的陰極源均具有獨立的高溫端口，確保了對材料沈積的最佳控制，並為各種薄膜提供了理想的條件。除了獨特的空心陰極混合式濺射頭外，SIV-200S還采用了鎖載工具，可以在不影響真空質量的情況下快速方便地裝卸樣品。負載鎖定資產可防止汙染,確保一致和準確的結果。ULVAC SIV-200S還包括一個完全集成的三軸腔室。該腔室可確保基板和光源完全對齊,以實現精確濺射.完全集成的冷卻模型和加熱器級還提供了整個濺射過程的精確溫度控制。該設備還與X射線探測器、離子計、質譜儀等一系列先進工具兼容。這些工具進一步保證了沈積過程中的準確性和準確性。總體而言，SIV-200S系統是一種先進的濺射裝置，提供卓越的均勻薄膜沈積和精確的溫度控制。它非常適合那些需要精確濺射的人，因為混合式頭和集成式冷卻機能確保均勻性和準確性。這使得ULVAC SIV-200S各種不同薄膜沈積工藝的絕佳選擇。