二手 ULVAC SIV-3545 #9279165 待售

ULVAC SIV-3545是日本ULVAC公司開發的三合一濺射設備。它由微型磁控管濺射室、電子束蒸發源和離子束蝕刻裝置組成。微型磁控管濺射室銅的平均沈積速率為1.2 μ m/min，最小薄膜厚度為1.5nm。它可以在高達3000°C的溫度下沈積材料，等離子體密度可以從10E15/cm3調整到10E18/cm3。電子束蒸發源可以在高達5000 °C的溫度下蒸發材料，最小蒸發速率為2 μ m/min。它還采用了質量流控制器，用於精確的材料沈積。離子束蝕刻裝置能夠以高達400 keV和最大50mA電流的離子能量進行氮蝕刻。它還有一個自動基板傳輸系統，支持一系列的基板尺寸，最大基板尺寸為直徑8英寸。此外，該裝置還配備了一個用於過程監測的真空室，並可利用其軟件進行遠程操作。總體而言，SIV-3545濺射機是當前濺射技術的一個突出實例。它是一種高性能和可靠的工具，使用戶能夠以高速率輕松準確地沈積各種材料的薄膜，同時也讓它們能夠精確地控制薄膜的性能。這一資產的優越性能使其成為半導體和納米材料薄膜沈積等應用的絕佳選擇,以及先進設備制造納米結構的生產。