二手 ULVAC SIV-500 #293773983 待售

ULVAC SIV-500
製造商
ULVAC
模型
SIV-500
ID: 293773983
Sputtering system Indium Tin Oxide (ITO).
ULVAC SIV-500是為半導體、光學和研究行業的先進薄膜沈積工藝而設計的最先進的濺射設備。作為真空設備的領先制造商,ULVAC設計了滿足現代材料科學研究和生產應用的高需求的SIV-500。這種通用的系統提供了卓越的性能和靈活性濺射各種材料在基板上的精度和控制。ULVAC SIV-500的主要特點是其先進的磁控管濺射技術,使薄膜能夠在各種基材上高效均勻的沈積。該單元配備了多個濺射陰極,每個陰極能夠同時濺射不同的目標材料,允許復雜的多層沈積過程。陰極戰略性地定位在腔室內,以確保在大面積基板上的最佳覆蓋範圍和均勻性。SIV-500配備了高性能真空機,具有可靠的渦輪分子泵和旋轉式葉片泵組合,提供快速的泵降時間和高泵送速度,以實現超高真空條件。這確保了清潔和穩定的過程環境與低水平的雜質,使高質量的薄膜沈積具有良好的附著力和均勻性。除了堅固的真空工具外,ULVAC SIV-500還集成了先進的工藝控制功能,允許用戶實時精確調諧諸如功率、壓力和氣體流量等沈積參數。該資產配備了一個用戶友好界面,提供對所有模型功能的直觀控制,包括配方管理、數據記錄和遠程監控功能。SIV-500沈積室設計方便,前門鉸接,夾具快速釋放,便於目標和基板加載。該室采用優質不銹鋼制成,具有優良的保溫性能,確保工藝溫度穩定,最大限度地減少沈積過程中的熱量損失。為提高工藝靈活性,ULVAC SIV-500可以配備基板加熱、原位厚度監測、反應性濺射等多種可選功能。這些附加功能使用戶能夠對設備進行定制,以滿足特定的工藝要求,並探索各種薄膜沈積技術。總體而言,SIV-500是一個可靠和通用的濺射系統,為各種薄膜沈積應用提供卓越的性能、精度和控制。無論是用於研發還是生產,這一單元都提供了高重復性和工藝穩定性的優越成果,使其成為尖端材料科學研究和先進薄膜制造工藝的理想選擇。
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