二手 ULVAC ULDiS-200 #9237375 待售

ULVAC ULDiS-200是一種高性能濺射設備，設計用於將薄膜材料沈積到基板上。該系統具有高達8 kW的電源、電子控制的真空室和前開門，方便訪問。ULDiS-200源是由直流電源供電的射頻（RF）導電耦合空心陰極單元。這種源機器產生高能電子的電離等離子體，用離子和中性粒子轟擊底物，同時產生大量沈積速率。ULVAC ULDiS-200真空室由不銹鋼組成，設計符合所有安全和操作要求。該腔室絕緣且熱穩定，具有良好的真空特性，使該工具能夠在較長的沈積時間內工作。它的數字壓力讀出確保了精確的壓力控制，而它的前開口門允許在裝載和卸載基板時方便訪問。ULDiS-200能夠生產一系列類型的材料，包括多晶矽、氧化矽和氮化物、氮化鈦和鉬。該資產還被設計為執行精確的厚度控制和均勻性，使其成為生產高達5 μ m的厚膜層的理想選擇。此外，ULVAC ULDiS-200還配備了多種用於等離子體監測和溫度控制的工具。該型號有廣泛的配件，包括了crucibles、痕量氣體和熱電偶。因此，用戶能夠全面監測所有沈積過程。總體而言，ULDiS-200是一種可靠高效的濺射設備，能夠生產優質薄膜。它具有高達8 kW的光源、電子控制的真空室和方便訪問的前開門，並且經過設計以提供精確的厚度控制和均勻性。ULVAC ULDiS-200沈積時間長，材料種類繁多，配件種類繁多，非常適合生產厚薄膜和薄膜。