二手 ULVAC ULDIS-900-CHL #9392461 待售

ULVAC ULDIS-900-CHL是一種用於創建薄膜結構的濺射沈積設備。該系統是一種緊湊的裝置，占地面積很小，可用於金屬、介電和/或磁性材料的沈積。使用通用的劑量和離子泵送裝置，ULDIS-900-CHL可以使厚度與半導體器件所需厚度一樣薄的材料均勻的濺射沈積。ULVAC ULDIS-900-CHL由一個900-W直流磁控管濺射源供電，該源可以被嚴格控制到毫安水平。這允許精確控制濺射過程，並允許用戶微調沈積在目標表面上的物料數量。該源還包括一個真空室，可抽空至低至15.3 mTorr的壓力。ULDIS-900-CHL利用多種特性優化沈積。高頻氣體充氣可以精確控制沈積材料的離子轟擊深度。快速掃描源控制允許用戶在同一塗層內實現快速定量成分轉換。同時，包括氧化物陷阱和活性塗層有助於均勻的氧化物沈積。此外，腔室還有一臺溫度監測機，用於0.1-200 nm範圍內的厚度。ULVAC ULDIS-900-CHL的樣品持有者為6英寸。單軸可旋轉工作臺，最多可承載2個基板。將支架加熱至100°C的溫度,以增強軟材料的沈積。一個4向氣體輸送工具完成樣品沈積序列，使樣品的制備具有簡單、復雜和高度專業化的結構。ULDIS-900-CHL是創建薄膜結構的強大濺射資產。通過實現對沈積速率和離子轟擊深度的精確控制，該模型使金屬和介電材料的沈積更加高效和準確。該系統具有高頻氣體、快速掃描源控制、氧化物捕集裝置、主動塗層和溫度監測設備，具有很大的通用性和準確性。