二手 ULVAC Z-1200 #293610444 待售

ULVAC Z-1200是一種高精度濺射設備，通常用於先進的薄膜沈積。它是為更好地控制沈積速率和薄膜均勻性而設計的。它提供了一個全面的物理氣相沈積學科，包括感應耦合等離子體（ICP）和直流電（DC）濺射。采用先進的超高真空（UHV）技術，實現了高質量的薄膜沈積。Z-1200配有ULVAC直流電源,可產生低電弧的先進直流輸出特性,可實現高精度沈積而不會重擊。此電源能夠產生高達1000 W的功率,從而實現高度兼容的塗層。電源還具有高達1000度C的溫度控制功能，可通過遙控操作。此外，ULVAC Z-1200還配備了一個真空量規模塊，允許量規在腔內放置和移動。Z-1200配備了多個濺射源，允許用戶有多個反應過程來創建完美的薄膜沈積。除直流濺射外，該系統還具有離子化和非離子化濺射、金屬和陶瓷沈積以及精確控制的磁函數，具有較高的沈積速率和薄膜均勻性控制。該單元由主室和子室兩個主要組成。主室使UHV的底壓為3 × 10-10 torr。裏面是一個旋轉轉盤，以啟用多個濺射源。子室是產生和產生等離子體的地方。這種設計允許ULVAC Z-1200混合不同的氣體來產生等離子體。Z-1200還具有兩個熱擴散泵和一個陶瓷加熱器選項的加熱能力。該機還具有水冷過程控制功能,可實現精確高效的溫度控制.此外，該工具還具有可變形鏡面和沈積電離器（DMI/DMAI），非常適合原子共形沈積。ULVAC Z-1200是一種功能強大且用途廣泛的濺射資產,它提供具有多種物理氣相沈積專業的高級薄膜沈積。該模型由高精度部件組成，對沈積速率和薄膜均勻性進行了較好的控制，並對高合規性塗層采用了先進的超高壓技術。這種強大的設備是要求薄膜沈積最精確的研發實驗室的完美選擇。