二手 ULVAC Zi-1000 #293829724 待售

ULVAC Zi-1000濺射設備以極均勻的低壓氣體放電源提供卓越的薄膜質量和均勻性。該系統設計用於多種不同的應用，包括半導體器件生產、光學器件生產、材料研究和陶瓷薄膜沈積。該裝置具有多種特性，使這臺機器非常適合用於高端薄膜沈積工藝。Zi-1000具有雙口袋雙磁控管濺射源，可用於濺射導電材料和非導電材料。該源的設計目的是提供高達30 nm/min的薄膜沈積速率。ULVAC Zi-1000還具有獲得專利的低壓、多頻直流磁控管源，以提高電離效率和沈積過程的均勻性。Zi-1000的機器人樣機使基板從工具的腔室轉移到固定裝置上變得容易。這種樣品操縱器還允許將多層連續沈積到基板上，而無需手動移除和更換。該資產的計算機控制真空計提供準確的讀數，以確保一致的過程條件。該模型還具有自動真空壓力控制器，可方便操作和精確控制腔室壓力。ULVAC Zi-1000配備了集成的薄膜厚度監控器，該監控器從計算機控制的石英晶體振蕩器中提取數據進行精確測量。此功能可確保沈積膜的可重復性和完整性。Zi-1000提供了許多其他功能,包括高精度沈積率控制設備、沈積室的自動清潔以及數字溫度控制系統。該單元還設計了安全功能，以防止發生事故。ULVAC Zi-1000出色的性能和獨特的功能,使其成為需要高度控制和精確的濺射過程的理想選擇。機器的多功能性意味著可以用於生產不同材料的薄膜，具有極好的均勻性和可重復性，使其成為多種應用的完美選擇。