二手 UNAXIS / BALZERS BPS LLS EVO #9240950 待售

UNAXIS / BALZERS BPS LLS EVO
ID: 9240950
Sputtering systems.
UNAXIS/BALZERS BPS LLS EVO是設計用於在大面積上沈積薄膜的最先進的濺射設備。該系統的主要部件包括一個可變角度和可變脈沖長度的先進磁控管槍,以及一個帶有旋轉基板支架的沈積室,以便於均勻沈積,並向各種基板材料發射均勻的能量分布。UNAXIS BPS LLS EVO濺射裝置的磁控管槍設計為在大型基板上的任何地方有選擇地提供精確和均勻的薄膜沈積,包括矩形(JEDEC)和高達5,000 mm2面積的復雜幾何形狀。它配備了廣泛的參數和特點,可以精確應用高質量的金屬和介電膜,如耐火金屬、合金、氧化物、氮化物、金剛石狀碳和抗蝕劑。此外,該機器能夠在有機或無機沈積在晶圓載體上的過程中,有選擇地沈積有紋理的結構層,以改善膜層的附著力。BALZERS BPS LLS EVO濺射工具具有在潔凈室環境下操作的負載鎖資產,還配備了機器人手臂,可以在加工室之間快速交換基板,從而對大量微型部件進行高效批量處理。該型號還提供高達10 nm/min的高沈積速率,使其適用於多種應用,如平板顯示器上的薄膜沈積、半導體芯片以及高精度的微電子元件。此外,BPS LLS EVO濺射設備還具有先進的控制和監控系統,以確保可重復的過程和快速的響應時間。其先進的反饋控制單元使操作員能夠實時監控沈積參數,在大面積基板上提供一致可靠的薄膜塗層。它的可自定義參數還簡化了設置過程,同時減少了用戶頻繁幹預的需要。綜上所述,UNAXIS/BALZERS BPS LLS EVO濺射機是一種先進的薄膜沈積工具。其先進的特性提供了均勻的能量分配的高品質薄膜,而其先進的控制工具則確保了可重復性和快速的響應時間。此外,它的鎖載資產和機器人臂還允許對大量部件進行高效的批量處理。因此,UNAXIS BPS LLS EVO濺射模型是需要快速、準確和均勻的薄膜沈積的各種應用的理想選擇。
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