二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9202971 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9202971
優質的: 1996
Sputtering system
Includes:
Computer control
CTI CRYOGENICS 9600 Compressor
Wafer loader system electrical cabinet and controls
LEYBOLD LEYVAC LV80C Vacuum pump
ADVANCED ENERGY MDX-10X Power supply
BALZERS MSU200 Power supply
HUTTINGER PFG 1600 RF Generator
DAYTON 500 lbs
Capacity overhead hoist with pendant / Rail system
Pumps:
HV Pump LC: Cryo CTI 8F onboard, VAT 2 Point
HV Pump MC: Cryo CTI 8F onboard, VAT Stepless
Fore pump LC / MC: Dryvac 50B
Meissnertrap MC cooled with LN2
Heater:
LC: QUARTZ Heater 2.0 kW
MC: QUARTZ Heater 4.0 kW
Sputtering:
Sources: Planner management AK 517 DC
Power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle, 12 kW
Etch:
Sources: Matchbox
Power supply: PFG 1.6 kW and HUTTINGER
(12) Tooling substrates, 6"
Handling: TECSEM With notch finder
Input: 3x400 VAC (3L+N+PE), 60 Hz, 53 A
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502是一種高速率射頻/直流濺射設備，用於將高精度薄膜層沈積在基板上。該系統利用射頻和直流功率將目標材料濺射到類似電子轟擊的大氣中，利用平衡離子回旋共振（ICR）技術創造出有效的沈積速率。UNAXIS LLS 502具有600 kHz高頻電源，配有150 W RF電源和150 kW直流電源，可方便、可調地沈積高純度薄膜。BALZERS LLS 502有一個集成的精確控制單元，它提供了廣泛的可變參數以及廣泛的工藝模式，允許沈積各種薄膜。其先進的軟件允許實時的過程監控，而其機械設計則允許幾十年的可重復操作而無需維護。LLS 502具有先進的腔室設計,可精確控制高達600°C的工作溫度,並具有廣泛的工藝窗口,可提高金屬和電介質的沈積速率。這使得研究人員能夠利用不同的工藝參數來獲得最佳的薄膜沈積。它還有一個全自動的氣體混合機，可以同時對個別氣體進行累積控制。此外，UNAXIS/BALZERS LLS 502提供了一系列光學元件，為用戶提供控制/監測能力，其中包括實時反射儀、自動光學顯微鏡、自動橢圓儀和測光能力。總體而言，UNAXIS LLS 502是一種可靠和精確的濺射工具，用於對沈積過程進行高度控制的高質量薄膜層的沈積。其精密的設計確保了可重復和精確的沈積過程，並提供卓越的工藝性能和優越的用戶靈活性。
還沒有評論