二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214650 待售
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已售出
ID: 9214650
優質的: 1996
Sputtering system
Environmental conditions:
Out of operation:
Temperature: 10-50°C
Relative humidity: 30-80%
During operation:
Temperature: 18-30°C
Relative humidity: 40-60%
Facilities requirement:
Argon-process: 0.5-1.0 Bar
CDA: 6-8 Bar / 87-116 PSI
N2 Vent: 1.5-2.5 Bar / 21.7-29.0 PSI
N2 Regen (Purge): 1.5-2.5 Bar / 21.7-36.3 PSI
PCW:
Inlet pressure: 4-7 Bar / 58-101 PSI
Outlet pressure: <0.5 Bar
Temperature: 15-25°C
(2) CTI On-Board 8F Cryo pumps
POLYCOLD (Meissener) PFC-400LT Chiller
Temperature range: -120°C to -150°C
Power supply: 415 V
Max full load amp: 8.00 A
PFEIFFER DUO 65 Mechanical pump
PFEIFFER DUO 035D Mechanical pump
(2) Pinnacle power supplies
Output power: 15 kW
IONTECH MPS-5001 Beam current controller
MSU 200 (A 250.1) Power distribution unit
Magnetron (Target-cathode): Ti, Al, Cu, GE, AU
Unit mass flow controller (UFC):
MFC 1: 50cc Ar
MFC 2: 20cc Ar
Chambers:
Load lock chamber (LC): Argon cleaning chamber
Main chamber (MC): Deposition chamber
Vacuum state:
Current MC base pressure: 1.70E-08
Current LC base pressure: 9.30E-08
Current MC ROR: 7.30E-07
Current LC ROR: 1.10E-07
Electrical power:
Supply voltage: 3 x 400 / 230 V (3L + N + PE)
Supply frequency: 50 Hz and 60 Hz
Main ground: <2 Ohm
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502是為各種薄膜應用而設計的濺射設備。該系統具有直徑5英寸的目標支架、6英寸的陰極和用於高效底物裝卸的負載鎖定單元。最大基板尺寸為6 「x 4.75」。該機以360瓦的最大等離子體功率運行，具有高均勻性和低等離子體不均勻性。鎖載工具對壓力、溫度和速度進行連續監控，以進行精確的樣品裝卸。目標操作資產提供了高度精確的目標控制,並允許最大限度地利用目標。模型的PECVD模塊提供了廣泛的過程參數。它的加工室設有一個帶光學可訪問視口的單件式鐘罩。它能夠在廣泛的中低溫範圍內保持精確的腔室溫度、壓力和氣體。該設備還配備了能夠處理薄膜和厚膜的濺射模塊。它具有三區加工室、三英寸內徑不銹鋼圓柱形真空室、四區磁控管和三區快速停止運動系統。通過磁化裝置可以達到濺射膜的均勻性和均勻性，磁化裝置提供磁場輪廓控制，並允許均勻濺射尺寸不超過6英寸的基板。機器的過程控制具有基於Windows的操作員界面,旨在實現無縫刀具集成。它具有安全的遠程訪問資產,允許通過Internet連接從任何地方訪問模型。該設備還具有強大的過程控制功能,包括批處理配方、多個過程配置文件和可變功率控制。總體而言，UNAXIS LLS 502是一種適用於各種薄膜應用的高精度濺射系統。它具有一個直徑5英寸的目標支架，一個6英寸的陰極和一個負載鎖定單元，用於高效的底物裝卸。其PECVD、濺射和過程控制模塊為一系列薄膜應用程序提供了廣泛的處理功能。
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