二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214750 待售

UNAXIS/BALZERS LLS 502是一種設計用於將薄膜沈積到基板上的高性能濺射設備。適用於多種薄膜材料的工業規模生產，可從一個或多個目標沈積薄膜。系統包括一個超高真空2 x 10-6毫巴的濺射室，溫度範圍150°C至350°C，等離子體與基板的最大工作距離為360mm。薄膜可以直接沈積在基板頂部或目標卡盤上。該單元還包括一個自動化的多區過程控制與手動和自動沈積配方。UNAXIS LLS 502由最大6kW功率的中頻源供電，可提供穩定、均勻的沈積速率。它包括一個完整的疏散機器，包括一個無油機械幹泵，一個用於預疏散的渦輪分子泵，四個擴散型泵和一組呼叫泵閥。該控制軟件可確保精確的過程控制,包括陰極偏置電壓、濺射氣體壓力和溫度.它還包括一個配方編輯器,用戶可以使用正確的參數配置定制流程。為確保可重復性,該工具配備了自動平面控制資產。BALZERS LLS 502可用於PVD（物理氣相沈積）、磁控管濺射、離子束沈積、反應性濺射等多種膜沈積技術。適用於半導體器件、微電子器件、介電層、金屬化層、ITO層、多層堆棧沈積、MEMS、光學顯示器薄層、多目標多材料系統、磁光薄膜生產等多種應用。該模型是為可靠和可重復生產適合各種研究和工業應用的高質量薄膜而設計的。它是一種具有多種特性的多功能沈積設備，非常適合任何類型的薄膜沈積工藝。