二手 UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9167779 待售

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ID: 9167779
晶圓大小: 5"
優質的: 1998
Sputtering system, 5" (5) Targets: NiCr, CoNiFe, Cr, Ta, 46 NiFe Currently warehoused 1998 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVO是一種混合濺射設備,其特點是用於生產薄膜的非感應耦合線性磁控管裝置,結合了高直流的優點低頻濺射技術。該系統還提供現場計量測量,以評估沈積質量。該機組有兩個主要部件,一個大型線性磁控管單元和一個較小的線性磁控管電源。線性磁控管電源允許產生高度均勻的直流電源磁控管腔內的濺射場。另外,在電源中註入高功率低頻脈沖,以促進等離子體中電離和材料遷移率的提高。這種安排允許較高的沈積速率,同時保持良好的均勻性和均勻性。線性磁控管單元裝有6個濺射源,每個濺射源具有可變的輸入功率,以及4個旋轉的內聯目標。該機器設計有目標之間的間隙,以方便膠片目標的變化。此外,磁控管室由不銹鋼構成,以確保可靠的真空環境。此外,線性磁控管工作室連接到額外的端口,以允許在原位光學監測能力。UNAXIS LLS EVO的設計目的是保證大型基板的最高均勻性,並盡量減少沈積過程中的粒子和碎片問題。其有效的操作條件提高了蝕刻沈積比,提高了工藝產量。該工具還配備了先進的車載過程控制監測,能夠實現準確的濺射性能和可靠的沈積環境。此外,資產還允許對氧化物退火和沈積循環等技術進行復雜的分析和優化。總體而言,BALZERS LLS EVO濺射模型為薄膜沈積和光電子研究提供了強大、可靠和高效的解決方案。
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