二手 UNAXIS Clusterline 200 #9273683 待售

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UNAXIS Clusterline 200
已售出
ID: 9273683
晶圓大小: 4"
優質的: 2006
Sputtering system, 4" Chamber included 2006 vintage.
UNAXIS Clusterline 200是一種高性能濺射設備,為用戶提供了一個用於塗覆多種材料的通用平臺。該系統配備了兩個獨立的150毫米簇狀盒式磁帶,允許同時或在單獨的基板上沈積不同的材料,而無需額外的重新加工。此外,該設備的300 mm x 300 mm負載鎖定可實現高通量濺射過程。集群線200由於沈積率高、周期時間短,是許多薄膜應用的絕佳選擇。該機組配備了強大的基於磁控管的電源,能夠產生高達8千瓦的最大功率。對於濺射沈積,這種功率可以被精確精確的控制,允許均勻的塗層結果。此外,這兩個盒式磁帶還具有獨特的平板式線性磁體設計,它擴散磁場,以實現沈積均勻性和徑向均勻性。對於柔性沈積,機器配有模塊化的加工室,一次最多可容納四個濺射源。此設計允許用戶在單個應用程序中在金屬、陶瓷和復合材料之間進行切換。此外,該裝置先進的屏蔽設計和脈沖DCMAG負載,控制濺射密度和最小化充電。該裝置還為高速度濺射過程提供了先進的冷卻工具。這種冷卻資產包括兩個獨立的循環泵,在整個模型中提供高效的熱管理和優越的溫度和均勻性。此外,該設備的多區端移位電源通過為每個電源提供獨立的可調電壓來增強濺射均勻性。最後,UNAXIS Clusterline 200提供了先進的安全設計,包括屏蔽窗口、集成聯鎖以及自定義錯誤檢測和報告。這些安全特性保證了設備的可靠性和安全運行的維護.總之,Clusterline 200提供了功能強大但用途廣泛的濺射系統,非常適合需要快速沈積時間和卓越塗層質量的濺射應用。該機組提供了用於高速度濺射的先進冷卻機、先進的屏蔽和磁鐵設計,以及用於精確功率控制的強大的基於磁控管的電源。憑借其緊湊的尺寸和靈活的工藝室,用戶可以在一個應用程序中實現對多種不同類型材料的均勻塗層效果。
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