二手 VARIAN 3125 #38005 待售

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VARIAN 3125
已售出
製造商
VARIAN
模型
3125
ID: 38005
DC Sputtering system (3) Conical targets, 5" (3) Planetary systems accommodate: Up to 6"-8" diameter Sputter metals & indium oxides Diffusion pumping system with LN cold trap Rotating planetary system.
VARIAN 3125離子源濺射設備是一種實驗室規模的濺射系統,用於使用惰性或反應性氣體的基板表面塗層。它能夠對底物進行低原子量或高原子量的蝕刻、沈積和合金化材料。3125是實驗室濺射塗層應用的高質量、高成本效益的解決方案,可用於各種基於濺射的實驗中的小規模生產。VARIAN 3125具有離子能量控制器,可進行精確精確的能量調節。它還具有較大的陰極面積和強大的旋轉磁控管濺射槍。該槍允許基板在任何方向上移動,從而提供目標的完整且均勻的覆蓋。此外,3125的真空壓力為10-2 mBar,抽水時間~ 10分鐘。該單元由幾個部件組成,包括一個高真空泵浦模塊、一個冷凍泵和一個帶手動超載控制機的真空計量站。此外,該裝置有一個風冷電源,具有可調的負偏置和正偏置。此外,VARIAN 3125還配備了手動控制工具,操作員可以自定義濺射過程參數。通用3125適用於直流和射頻濺射過程。它還能夠從廣泛的金屬、氮化物、氧化物和合金中濺射出來。該資產允許對可旋轉的目標基板進行濺射,包括陶瓷、玻璃和硬蠟基板,以及柔性和非平性基板。用戶可以使用各種參數自定義其濺射過程,包括DC/RF功率級別、速率、時間和冷卻參數。VARIAN 3125還允許樣品在過程中進行磁性旋轉。這種旋轉增強了沈積的均勻性。3125離子源濺射模型是實驗室和小規模生產濺射塗層應用的有效、用戶友好的解決方案。它允許用戶自定義其流程以滿足其特定要求。它的優化和穩定性使得它能夠可靠地用於各種濺射應用中。
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