二手 VARIAN 3180 #30959 待售

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製造商
VARIAN
模型
3180
ID: 30959
晶圓大小: 4"
magnetron sputtering system configured for 4" wafers, System is fully automated, cassette-to-cassette, and has high throughput, Equipped with 3 targets and an RF-sputter etch module for in-situ substrate cleaning prior to sputtering, as-is.
VARIAN 3180濺射設備是一種先進的高性能濺射系統,旨在提供最佳的薄膜沈積能力。該機組使用電子束蒸發源、射頻電源、惰性氣體和冷凍機。電子束源用於蒸發所需純度高達功率4kW的金屬和介電材料。它具有8 「x 8」 x 8「工作區的真空室,直徑為7」的光束孔徑。該源能夠將材料沈積在直徑最大為8英寸、間距最大為2英寸的基板上。射頻電源可在3180中產生高達1000瓦的濺射功率。射頻源在頻率和功率水平上是可調的,允許非常精確地控制濺射過程。這樣可以縮短材料沈積時間、提高沈積速率和提高吞吐量。VARIAN 3180還包括一個惰性氣體工具,能夠在工作區提供穩定的大氣。這包括在0.1至5 Torr之間的壓力下的氮氣和氙氣。這種資產用於防止沈積物料的氧化,方法是在濺射時保持室內的高純度氣氛。3180還有一個冷凍抽氣模型,它捕獲放氣分子和濺射過程中產生的任何顆粒。這有助於確保沈積具有盡可能高的質量,而不會有任何汙染因素影響沈積的準確性。總體而言,VARIAN 3180是一種先進且功能強大的濺射設備。它通過其強大的電子束和射頻源範圍以及惰性氣體和冷凍泵送系統提供了最佳的薄膜沈積能力。該系統能夠以較高的吞吐量生產優質礦床,是各種薄膜應用的理想選擇。
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