二手 VARIAN 3180 #83197 待售
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ID: 83197
晶圓大小: 4"
Sputtering system, 4"
(2) Conmag targets
Mini quantum target
Pre-heat / Degas station
EUROTHERM 808 Backside wafer heater
Tiw station shielding to prevent particle contamination
Source isolation shielding to prevent particle contamination
Backside air system replaced with NUPRO iso valves and VCR connections
DC Power supply remote meter, digital
(2) Wafer cassettes, 4"
Standard VARIAN controller
VARIAN 919 IG Controller
FLUKE 1722A Process controller with SD card reader to replace floppy drive
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 3438A Multimeter
MKS 250B Gas controller with MKS 248 valve assembly
(3) Gas systems with MKS MFC and 247 controller
VARIAN 880 Ion gauge controller
CTI CT-8 Cryo pump with compressor
VARIAN Cryo temperature monitor
LEYBOLD D-30 Mechanical pump
(3) ADVANCED ENERGY MDX DC Power supplies
PLASMATHERM 1000W RF Generator
Handling system with etcher, 4"
10 kW Power supply for Cu
5 kW Power supply for Tiw.
VARIAN 3180是一款多目標直流磁控管濺射設備，設計用於薄膜沈積、塗層、表面處理等多種應用。這種濺射系統利用磁場產生高能離子，用於在基板上沈積薄膜。該單元具有最先進的控制軟件和硬件,使其能夠提供精確且可重復的過程結果。3180具有集成的低維護性雙質子離子源,與傳統等離子體源相比具有多種優勢,包括擁有和維護成本低、處理廢物水平低,以及在更廣泛的底物上更一致地沈積薄膜。影片的特點也保證了影片的高質量是一致的和可重復的。DC Magnetron Sputtering機還配備了集成的、堅固的高速率電源，使其比市面上的其他系統實現更高的沈積速率。這樣可確保更快的流程周期時間和更高的流程可重復性。該工具提供各種為滿足特定材料特性要求而設計的濺射目標。目標設計為耐用,並提供長期的可靠性和性能。該資產還具有可伸縮的碳和石墨陰極，這使得廣泛的基材可以與模型一起使用，並提供優越的質量結果。VARIAN 3180還得到了VARIAN多目標直流磁控管濺射設備保修的支持,該保修可保護系統在正常使用過程中發生故障的任何部件。此保修的費用為象征性費用,該費用是根據設備的大小和功能級別計算得出的。3180的控制軟件為用戶定制提供了廣泛的選項。用戶可以自定義自己的機器設置，以控制目標大小、形狀、位置和位置，以及當前和偏差設置。該軟件還允許創建自定義配方和程序,從而使用戶能夠快速準確地復制其處理條件。總體而言,VARIAN 3180為用戶提供了高質量、經濟高效且可靠的濺射工具。其雙質子離子源、堅固的高速率電源和廣泛的濺射靶子使用戶能夠將材料薄膜沈積到種類繁多的基板上，具有極好的可重復性，而其控制軟件和硬件為用戶提供了廣泛的用戶控制選項。該資產以VARIAN多目標直流磁控管濺射模型保修為後盾,確保組件在正常運行期間受到任何損壞。
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