二手 VARIAN 3190 #9184622 待售

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VARIAN 3190
已售出
製造商
VARIAN
模型
3190
ID: 9184622
晶圓大小: 5"
Sputtering system, 5" Module: Metal Process: Metal deposition Front-metal (RF +Ti +NiV +Au).
VARIAN 3190是一種高精度濺射設備,設計用於將超薄膜層沈積到廣泛的基板上。主要用於制造半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池等光電器件。濺射系統的工作原理是使用一個涉及磁控管陰極的過程,該過程安裝在真空室的頂部。該磁控管陰極由交流電(AC)電源通電,並用高能離子轟擊目標材料。這種轟擊導致目標材料濺射,噴射帶正電荷的離子,這些離子隨後被吸引到放置在真空室中的基板上。這些離子沈積在基質上,形成薄膜層。3190具有許多特性,非常適合薄膜沈積。電子控制單元允許精確編程功率、占空比、沈積速率、壓力等濺射參數。該機還具有高精度快門機構,用於真空室的精確關閉和打開。這一特征對於薄膜層的均勻一致沈積具有重要意義。VARIAN 3190提供了多種濺射配置,允許用戶將不同類型的基材和目標材料融入沈積過程。該工具可以配置單個磁控管陰極,也可以在堆叠配置中使用多個磁控管。濺射過程可以通過增加外部磁場來進一步增強,讓使用者量身定制濺射離子的方向,以制造出更均勻、缺陷較少的薄膜。3190資產是一種可靠、用戶友好的濺射模型。它易於使用,在薄膜沈積方面具有極好的均勻性。它是制造各種光電等器件的理想之選,能夠沈積具有優異穩定性和性能的薄膜。
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