二手 VARIAN 3190 #9269838 待售

VARIAN 3190是一種先進的直流電（DC）磁控管濺射設備，設計用於材料科學、研發中的精密薄膜沈積應用。它具有獨立或同時沈積多達四種材料的能力，以及目標到基板的距離控制和終點目標侵蝕檢測。3190最多可容納四個目標,采用強大的三磁控管配置來優化薄膜均勻性和沈積速率。它獨特的模塊化設計使多個磁控管的快速安裝和易於交換的濺射源。多磁控管濺射配置在研發環境中是首選，因為它能夠補償源不對準和充電效應。系統上專有的Kernex™直流電源具有高達700瓦的控制能力,可精確控制濺射速率和偏置電壓。完全隔離的目標電源為所有磁控管提供安靜、清潔的電源,從而可以精確控制濺射速率。電源調節電路有助於消除由電源尖峰引起的電弧和濺射均勻性問題。腔室幾何形狀與高真空抽油機一起，為最苛刻的基板沈積和薄膜生長需求提供了所需的穩定性和均勻性。其快速腔室疏散和壓力控制是業內最先進的之一。此外,機器在沈積過程中監視並保持目標與基板之間的穩定距離,提供均勻的薄膜沈積,且受目標侵蝕的幹擾最小。VARIAN 3190用戶友好,具有強大的開放式平臺體系結構,可輕松集成到現有的材料沈積系統中。這使得該工具成為各種材料科學、研究和開發應用的理想濺射資產。其獨立或同時沈積的能力、目標對基板的距離控制和目標侵蝕控制使其成為光子、超晶格和半導體器件制造的理想選擇。