二手 VARIAN 3290 STQ #9293265 待售

製造商
VARIAN
模型
3290 STQ
ID: 9293265
晶圓大小: 6"
優質的: 2001
Sputtering system, 6" Compressor 8500, 3 Phase, 208 V CTI On-Board 8 Cryo pump VARIAN TV-301 Molecular pump VARIAN TV-81-T Molecular pump (2) PTS03003UNIV Fast pumps Water cooler: WW /50/S/DM (2) VPW2870M5 DC Power supplies VPW2870B5 DC Power supply 2001 vintage.
VARIAN 3290 STQ是為薄膜和多層的持久可靠沈積而設計的濺射設備。該系統提供出色的過程重復性和均勻性,以滿足嚴格的控制要求,具有非凡的穩定性。它提供了具有三個功率級別的高級脈沖電源單元,可提供一定範圍的電壓、電流和脈沖頻率,以實現最佳的濺射性能。該機進一步配備了兩個大體積目標組件和兩個平面靜電夾具,用於安全、精確的樣品處理。VARIAN 3290STQ利用先進的過程控制工具提供精確和可重復的濺射速率,而無需手動調整。該控制資產提供直觀的軟件來控制過程參數,如目標功率和基板偏差。大型目標允許對5英寸寬的層進行高效濺射,並能夠為趨勢和均勻性控制不斷改變功率。該型號還與廣泛的材料完全兼容,包括電介質和導體,並設有防止背蝕和目標失控的保護設備。3290 STQ濺射系統可容納多種基材形狀和尺寸,還包括原位濺射蝕刻模式。該裝置的特點是基板裝卸時間快,腔室清潔性好,抽水時間短。此外,該機器還包括一個自動化的水蒸氣感應工具,以提供清潔、無斷裂的薄膜結構和可用於氧氣清潔和蝕刻應用的通用可旋轉遠程等離子體源。該資產還具有低負載容量模型,是磁性介質應用或高性能薄膜沈積的理想選擇。總體而言,3290STQ是一種先進的自動濺射沈積設備,旨在提供精確和可重復的薄膜結果。該系統采用直觀的過程控制軟件和高效的大容量目標組件,確保了最佳的濺射性能,並提供了卓越的腔室清潔度和快速的基板加載時間。該單元還包括用於氧氣清洗蝕刻應用的通用可旋轉遠程等離子體源,以及適合更苛刻應用的低負荷容量機器。
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