二手 VARIAN 3290 #9154648 待售
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ID: 9154648
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6"
Entity target configuration:
Process station #1: HARD ETCH
Process station #2: ALSI
Process station #3: ALSI
Process station #4: ALSI
Process station cathode configuration:
Station #1: Etch
Station #2: Con-Mag 2
Station #3: Con-Mag 2
Station #4: Con-Mag 2
Heater configuration:
Heater type (All Station): DC BIAS
Heater controller (All Station): (3) Eurotherm 808, (1) Eurotherm 3508
Power supply configuration:
RF Gen. station #1: RF-10S (1KW max)
Inner PSU station #2: 2.5 KW
Outer PSU station #2: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #3: 2.5 KW
Outer PSU station #3: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #4: 2.5 KW
Outer PSU station #4: AE PINNACLE 12 KW
System vacuum configuration:
Compressor: Model 8150
8R Cryo pump: Yes
Water pump: No
Software configuration:
User's guide: ECS 3000
Version: 96.204.10U1
Floppy drive: 3.5"
Double cassette loading: Yes.
VARIAN 3290濺射設備是一種先進的多元件沈積工具,用於制造薄膜。系統的核心是磁控管濺射元件,它采用磁屏蔽陰極,線圈同心排列。這在陰極表面附近產生了一個強磁場,將電子的發射引向濺射目標,允許一個非常均勻,往往是高產的沈積過程。該裝置配備了幾種能夠沈積不同物質的部件和特性。例如,陰極的形狀可以用一個可調節的配置平臺進行調整,以創建一個優化的沈積半徑。此外,可以將濺射目標材料編程為優化,以達到最大的粘結效率,甚至針對特定的應用需求進行定制。3290配備了薄膜高速率沈積的三個主要部件。第一種是雙磁控管濺射炮,提供兩個高效率的沈積區。第二個是感應線圈,防止電弧,連接到電源,在濺射前加熱濺射目標。最後,第三個成分是一個腔室篩選機制來控制腔室內的離子,提高沈積速率。VARIAN 3290利用了一個計算機試點接口,便於控制和定制機器。這樣可以精確控制壓力、頻率、電壓和溫度,從而使用戶能夠優化沈積過程。此外,高級診斷子系統可以檢測某些電氣或機械故障並立即向用戶發出警報。總體而言,3290是一種功能強大的多用途濺射工具,旨在沈積高產量的薄膜。其可變配置平臺、雙磁控管槍、獨特的腔室篩選機構、精確的計算機-飛行員界面,使其成為各種濺射應用的理想選擇。
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