二手 VARIAN 3290 #9157043 待售
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已售出
ID: 9157043
晶圓大小: 6"
Sputtering system, 6"
P/N: 983-4353
TiW, AlCu, Hard etch
CTI-Cryogenics On-Board (8) cryopumps
V200-A & V200 turbo pump
(2) MKS 250B controllers
FLUKE 1722A Instrument controller
FLUKE 8840A Multimeter
Wide range thin film monitor
Sputtering power supply
Vacuum system controller
880RS Vacuum ionization gauge
RF Matching controller
Cassette motor control
Temp monitor
Dual CTI-Cryogenics On-Board controller
Pfeiffer DCU controller
MKS vacuum controller
Multi-range DC sputtering power supply
(2) Interlock status display
(2) Deposition source control
RFPP RF10S RF generator
(3) CPI CPW-12/480 power supply
(1) AC Power transformer/conditioner
3 Phase, 480 V, 22 A, 60 Hz.
VARIAN 3290是為薄膜塗層沈積而設計的高度先進的濺射設備。其優越的性能得益於先進的蝕刻技術、離子源電源、四頭濺射室、旋轉爪晶片處理機構和全自動質量流過程控制系統等技術的結合。它能夠在薄膜厚度低至180納米的圖樣上實現可重復的均勻性。3290使用雙室蝕刻單元。這臺機器能夠對金屬、電介質和聚合物進行穩定的蝕刻。四頭濺射室通過在源和基板之間旋轉時間相關的可編程爪來工作。該磁場產生離子濺射能量，用於沈積均勻的薄膜塗層。旋轉爪晶片處理機制允許在過程之間自動控制和高效運輸晶片。VARIAN 3290附有全自動的質量流過程控制工具。這包括圖形用戶界面（GUI）,允許用戶控制諸如工藝速度、氣流和目標材料厚度等參數。GUI還提供了整個過程的編年史,包括開始和結束時間,以及過程中發生的所有事件的詳細日誌。濺射資產有一個令人印象深刻的功能列表，這將允許用戶實現優越的薄膜塗層。這包括電介質、金屬和聚合物的沈積。磁控管濺射源沈積速率高，可塗覆精度高、均勻的塗層。它還有一個大的腔室容量，能夠塗覆大批量的晶圓。3290的功率控制精度很高，可以0.1微米增量調節。這樣可以精確控制塗層厚度。此外，雙室蝕刻模型能夠對各種材料進行穩定、可重復的蝕刻。總體而言,VARIAN 3290是一種高度先進的濺射設備,專為符合行業標準的薄膜塗層而設計。它的一套特性和技術使其成為市場上技術最先進的濺射系統之一。
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