二手 VARIAN 3290 #9236340 待售

VARIAN 3290 Sputter Equipment是一種在各種基板上沈積金屬、介電或絕緣材料薄膜的設備。這最常用於半導體工業中的精密薄膜塗層應用、硬盤驅動器生產、電子組裝以及其他微制造工藝。3290濺射系統是一種單室高真空沈積裝置，能夠在極低過程離子汙染的超高真空環境中沈積薄膜。它采用Cel Chamber技術（惰性氣體濺射）設計，有助於保持穩定和高的沈積速率。這臺機器有八個Cel Chamber源，最多可容納十二個物質目標。它具有廣泛的工藝室選擇，包括冷凍泵送、旋轉基板和矽步進器，用於精確的均勻膜沈積和晶圓對準。該工具具有數字化過程控制和數據記錄功能，用戶可以精確監控沈積參數並記錄數據以供後續分析。這有助於確保薄膜沈積過程的可重復性和準確性。此外，該資產還配備了集成過程控制模型，可用於監測關鍵過程參數，如真空壓力、沈積速率和溫度。VARIAN 3290還配備了可選的汙染監控器，提供了工藝氣體線、工藝壓力、基板地形和通量均勻性等沈積條件的實時反饋。其他選項包括用於內部或外部氣體供應的多條氣管線和一個可編程汽化源（PVS）室。綜上所述，3290 Sputter Equipment是一種高真空沈積系統，設計用於半導體行業的精密薄膜塗層應用。它配備了數字化過程控制單元和數據記錄，以確保薄膜沈積過程的重復性和準確性。它能夠在極低工藝離子汙染的超高真空環境中沈積多種不同材料的薄膜。此外，它還配備了一個綜合汙染監測儀和各種功能，如冷凍泵送、旋轉基板和PVS腔室。所有這些特性使得VARIAN 3290成為薄膜沈積的理想選擇。