二手 VARIAN 3290 #9236362 待售

VARIAN 3290是一種工業濺射設備，用於將薄膜沈積到各種基板上。該系統可以沈積一系列薄膜材料，包括金屬、氧化物、半導體和絕緣體。它配有一個封閉的大型濺射目標，大小和形狀不同，通常由需要沈積的材料組成。它具有磁控管濺射陰極，具有單靶或多靶濺射能力和行星運動能力，用於旋轉和索引目標濺射技術。濺射陰極由真空室、目標基板和磁控管源組成，用於氣體電離。真空室允許氣體被引入腔室，目標基板充當濺射過程的頂面。磁控管源在腔內產生高真空，確保氣體分子和負離子能夠不受阻礙地通過腔內。這種濺射裝置還采用超高真空機，以達到最佳性能並防止汙染。刀具有一個三軸機械手，用於放置用於濺射的基板支架，可以配置為允許均勻覆蓋、高速、圓形或偏移圓周運動。它還具有可編程的前後比控制濺射侵蝕和特征控制。可變可編程表提供多達三個預定義的控制區域，允許用戶自定義基板和濺射沈積模式的材料。一個感應耦合等離子體源也被納入資產中，以獲得額外的多功能性，從而實現精度。為保證均勻性，3290采用三維粒度監控器，控制粒度形狀和粒度。此外，該模型使用石英晶體厚度監測器進行精確的沈積控制和光學發射光譜以及質譜法進行過程控制。總體而言,VARIAN 3290是一種高級設備,具有高性能,可在各種基板上精確濺射薄膜。這為客戶提供了一個高效有效的基板沈積解決方案，從而實現最大精度和控制。