二手 VARIAN 3290 #9238015 待售

VARIAN 3290是一種濺射設備，可以利用磁增強反應性濺射（MERS）或反應性離子束蝕刻（RIBE）技術生產薄膜材料。該系統能夠生產各種材料，如金屬、電介質、氧化物、半導體和薄膜。這種濺射裝置旨在為各種用途的這些材料的沈積提供更好的均勻性和可重復性。3290是一種三源濺射機，提供高離子電流（>200mA），與傳統濺射源相比，可提高沈積速率。該工具包括一個強大和高效的雙冷陰極源，這使得各種材料的高速率沈積。這種陰極角沈積（CAD）濺射源設計用於在大表面積上沈積高純度、薄薄且均勻的材料層。該資產還具有高性能電磁多目標濺射源，能夠沈積高度復雜的分層結構，具有極好的均勻性和可重復性。濺射模型利用先進的真空設備進行高效、一致的沈積操作。VARIAN 3290采用了先進的技術，確保了卓越的真空性能，包括射頻和直流泵送系統、帶有單獨安裝的離子計和水噴射泵的再生渦輪泵，以及用於連續無表面活性劑基板的廣譜吸氣泵。3290還提供了材料沈積速率和均勻性方面的工藝能力和靈活性。VARIAN 3290采用了強大的源系統,使其能夠以比傳統技術更大的均勻性沈積各種材料的薄層。該裝置能夠承受室溫至350°C、平均沈積功率高達10 W/cm2的基板溫度，為許多材料提供了高度靈活的工藝。3290機也是金屬和電介質直接沈積的理想選擇。除直流/射頻濺射外，該工具還能進行反應性濺射、化學氣相沈積（CVD）和化學反應性離子束蝕刻（RIBE）。該資產提供了多種輔助工藝能力，如旋轉目標、偏置濺射和表面處理，如MERSTEC。VARIAN 3290的先進特性和功能使其成為各種薄膜沈積應用和工藝的理想選擇。VARIAM 3290具有較高的沈積速率、均勻性和工藝靈活性，是生產薄膜材料的高效模型。