二手 VARIAN Chamber for M 2000 #293661352 待售

VARIAN Chamber for M 2000是為薄膜沈積應用而設計的濺射設備。它是一種研發級沈積系統，能夠在大面積沈積，具有較高的一致性和均勻性。該裝置非常適合沈積金屬、電介質和有機物等多種材料。M 2000的腔室具有兩個6英寸x 6英寸晶圓轉盤和兩個8英寸x 8英寸晶圓轉盤，由直觀的用戶界面控制。該機采用傳統陰極工具和屏蔽陰極機構，以確保最優均勻性和可重復性。晶圓轉盤的設計是為了確保在濺射操作過程中晶圓的精確對準和平行。此外，資產還具有靈活的晶圓真空源端口，可用於在濺射操作中引入氣源。VARIAN Chamber for M 2000還包括一個獨特的SubSystem 2000控制櫃，旨在最大限度地提高模型的性能和效用。設備包括一個軟件包,允許從外部PC遠程訪問和控制系統。此軟件還提供高級診斷和設備實用程序。M 2000的腔室利用精密的旋轉機械快門在晶片表面提供均勻的沈積速率，而不需要額外的保護面罩。該機還具有充分的氮氣凈化能力，能夠快速高效的清洗過程。此外,該工具還具有幹蝕刻選項,以及用於高效質量控制過程的高分辨率接縫檢測功能。VARIAN Chamber for M 2000還包括一個具有精確控制和監控能力的高輸出射頻電源。它還提供了廣泛的濺射離子源，用於呈現各種薄膜。最後還包括了雙面沈積、可調壓力檢測儀、增強安全性和高效操作的丙烯酸安全窗口等多種其他特點。總之，M 2000室是一種先進的研發級濺射設備，設計用於高保真度、高可重復性的薄膜高效沈積。該型號還提供了許多附加功能,如SubSystem 2000控制機櫃、精密旋轉機械快門和高輸出射頻電源,以確保最佳性能。